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화웨이 7나노 중국 반도체 개발 ASML EUV 장비없이?

    화웨이가 쏘아올린 한국의 반도체 미래

    고대 그리스 역사가 투키디데스는
    스파르타와 그리스 간 벌어진 페로폰네소스 전쟁의 원인
    기존 패권국인 스파르타의 두려움에서 찾았다.
    이후 정치학자 그레이엄 앨리슨은 2017년 ‘예정된 전쟁’이라는 저서에서
    미국과 중국 상황을 각각 스파르타와 그리스에 빗댔다.
    미국 같은 패권국과 중국 등 신흥 강국은 결국 부딪칠 수 밖에 없다는 논리다.
    그는 이런 상황을 ‘투키디데스의 함정’으로 불렀다.
    그러면서 지난 500년간 16번의 투키디데스 함정 사례에서
    12차례가 전면전으로 이어졌다고 분석했다.

    투키디데스의 함정?

    • 강대한 대국이 등장
    • 그 대국의 부상이 기존의 강대한 대국에 대한 불안 증가
    • 곧, 전쟁이 발발할 가능성 증가

    국제 관계 이론과 국가 간 갈등 분석에서 중요한 개념 중 하나.

    중국 화웨이가 투키디데스의 함정을 재소환하고 있다.
    화웨이의 신형 스마트폰 때문에 해빙 분위기로 가던 미.중 관계에
    이상 기류가 감지 되고 있다.
    본래 신형 주력 스마트폰을 처음 공개하는 방식은 정해져 있다.
    CES,IFA같은 국제 가전 전시회와 자체 대규모 행사를 통해서다.
    대대적인 예고 광고도 곁들인다.

    각본대로 움직인 중국

    중국 화웨이도 그동안 이 관례를 따랐다.
    이번엔 달랐다.
    지난달 29일 갑자기 자체 온라인 몰을 통해 신형 스마트폰인
    ‘메이트60 프로’를 공개했다.
    지나 러몬도 미국 상무장관이 중국을 방문한 때다.

    2020년 미국의 대중 제재 이후 3년 만에 내놓은
    5세대 (5G) 기반의 스마트폰이었다.
    스마트폰 두뇌 역할을 하는 애플리케이션프로세서(AP)도
    처음으로 중국 내 7나노미터 공정에서 생산했다.
    중국 정부는 화웨이폰에 대한 자신감의 표현으로
    공공기관 내 애플아이폰 사용 금지령을 내렸다.

    미국에선 두려움 섞인 평가가 나왔다.
    워싱턴포스트는 “로몬도 장관의 방중에 맞춰 화웨이가
    자체 칩을 넣은 스마트폰을 공개해 미국에 한방 먹였다”며
    미국의 제재가 중국의 핵심 기술 발전을 막지 못하고 있다고 비판했다.

    그러나 중국의 7나노 공정이 우려할 정도는
    아니라는 분석이 지배적이다.

    미국은 지난해 10월 첨단 반도체 장비를
    중국에 수출하는것을 금지했다.
    7나노 공정의 필수 장비로 알려진 ASML의
    극자외선(EUV)노광장비가 대표적이다.
    EUV는 반도체 원판인 웨이퍼에 회로를 그릴 때 쓰는 장비다.
    그런데 EUV의 이전 단계 제품인 심자외선(DUV) 장비로도
    7나노급 반도체를 생산할 수 있다.
    중국은 지난달까지 미국의 규제 대상에서 빠져 있던
    DUV장비를 쓴것으로 알려졌다.

    한국 기업 피해보는 일 없어야

    하지만 DUV로 7나노 반도체를 생산하면 불량률이 높아진다.
    미국의 소리는 “DUV를 통한 7나노
    공정 수율은 15%정도”라고 전했다.
    낮은 수율 때문에 대량 생산도 불가능하다.
    화웨이가 이번에 신제품 초도 물량을 100만대도 내놓지 못한 이유다.
    조 바이든 행정부도 이런 점을 잘 알고 있다.
    변수는 미국 의회다.
    마이크 갤러거 미국 하원 미.중 전략 경쟁특위 위원장은
    “화웨이에 대해 모든 기술 수출을 중단해야 한다”고 주장했다.

    불똥은 한국으로 튈 수 있다.
    화웨이 신형 스마트폰에 유통경로가 불분명한
    SK하이닉스의 메모리 반도체가 들어가서다.
    자칫 다음달로 끝나는 대중 반도체 장비 수출통제
    유예 조치 대상에서 한국이 빠질 수도 있다.
    미국 의회가 투키디데스 함정에 빠져 한국이 피해를 보는
    최악의 상황이 일어나지 않도록 지혜를 모을때다.

    중국 7나노 첨단 반도체 개발 성공

    1. 2010년대 말, 미국 트럼프 행정부는 화웨이의 통신 장비 수입을 금지하고,
    이로 인해 미·중 무역갈등이 본격화.

    2. 7나노는 반도체 공정에서 회로 간 선폭을 의미하며,
    이를 위해 극자외선(EUV) 노광 기술이 사용.

    3. 미국의 제재로 화웨이는 TSMC와의 거래가 끊기고,
    스마트폰 핵심 부품을 구할 수 없어 세계 시장에서 하락.

    이런 과거의 일들 속에서 중국이 7나노 첨단 반도체 개발 했다는 것이 
    미국을 긴장 시킬 수 있다는 의견이 있음.

    하지만 미국은 ‘전자설계자동화(EDA)’ 부분에 의문을 제기

    • EDA(반도체 제조 전에 회로 설계와 오류 해결을 위해 사용 소프트웨어)
    • 이 분야에서 케이던스와 시높시스라는 미국 기업들이 시장 지배
    • 이들의 IP를 피하는 것은 어렵다는 점

    따라서 이번 화웨이에서 케이던스와 시높시스의 EDA를
    사용했을 가능성이 높으며,
    이로 인해 미국에서는 화웨이의 반도체 개발이 미국의 제재를
    위반했을 것이라 주장

    EUV 대체 뭐길래?

    EUV는 기존의 심자외선(DUV) 대비
    파장이 약 14배 짧아 더 세밀한 패턴을 만들 수 있는 최신 노광 기술입니다.

    • 회로 작업 속도와 횟수 차이 발생
    • EUV를 사용하면 더 정밀한 패턴을 쉽게 만들 수 있음
    • EUV 장비는 매우 고가
    • 대량 생산을 위해서 비용 부담이 큰 장비

    중국이 사용한것은 EUV가 아닌 DUV 기반 반도체 생산

    EUV 장비 생산 ‘네덜란드 ASML’

    ASML은 현재 EUV 리소그래피 기술을 사용
    반도체 제조 과정에서 사용되는 고급 리소그래피 장비를 제조
    세계적으로 유명한 기업 중 하나입니다.

    EUV 장비는 반도체 제조에서 매우 중요한 역할을 하며,
    미세한 패턴을 새기기 위해 극자외선 (EUV)을 사용합니다.

    ASML은 이러한 장비를 개발하고 공급하여
    세계적으로 주요 반도체 기업들에게 판매하고 있습니다.

    ASML 경쟁사로 꼽는다면?

    1. Nikon:
      광학 리소그래피 분야에서 노광 장비를 제조
      ASML과 함께 반도체 제조 공정에서 필요한 장비를 제공
      일부 시장 점유율 보유

    2. Ultratech (Lam Research):
      노광 기술을 개발하고 제조하는 회사
      Lam Research에 인수되었으며, ASML과 경쟁하려는 의지.

    3. Canon:
      광학 리소그래피 분야에서 ASML과 경쟁
      일부 반도체 제조 업체에 광학 장비를 공급.

    4. Intel:
      EUV 리소그래피 기술 개발에서 협력
      Intel은 자체적으로 EUV 리소그래피 기술을 개발하고
      제조하려는 노력중.

    5. TSMC :
       EUV 리소그래피를 사용하여 고급 반도체 생산
       ASML과의 협력과 경쟁 관계

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